GMD2000油性石墨漿料納米研磨分散機(jī)：石墨烯漿料分為兩種，以水為介質(zhì)分散叫水性，以NMP為介質(zhì)分散叫油性，石墨烯根據(jù)石墨烯原料的不同，一般含量在2.5-5的固含量之間打成漿料，影響石墨烯分散或者剝離的因素有很多，設(shè)備的選型，分散劑的使用，固含量的把握。

GMD2000油性石墨漿料納米研磨分散機(jī)產(chǎn)品介紹：

石墨烯漿料分類

石墨烯漿料分為兩種，以水為介質(zhì)分散叫水性，以NMP為介質(zhì)分散叫油性，石墨烯根據(jù)石墨烯原料的不同，一般含量在2.5-5的固含量之間打成漿料，影響石墨烯分散或者剝離的因素有很多，設(shè)備的選型，分散劑的使用，固含量的把握。

石墨烯的主要制備方法

石墨烯主要制備方法：制備石墨烯常見的方法為機(jī)械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長法和化學(xué)氣相沉積法（CVD）。

1.機(jī)械剝離法是利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對運(yùn)動，得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡單，得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結(jié)構(gòu)，但是得到的片層小，生產(chǎn)效率低。

2.氧化還原法是通過將石墨氧化，增大石墨層之間的間距，再通過物理方法將其分離，然后通過化學(xué)法還原，得到石墨烯的方法。這種方法操作簡單，產(chǎn)量高，目前國內(nèi)使用氧化，還原法制作石墨烯漿料的。

3.SiC外延法是通過在超高真空的高溫環(huán)境下，使硅原子升華脫離材料，剩下的C原子通過自組形式重構(gòu)，從而得到基于SiC襯底的石墨烯。這種方法可以獲得高質(zhì)量的石墨烯，但是這種方法對設(shè)備要求較高

4.CVD也叫氣相沉積法是目前很有可能實(shí)現(xiàn)工業(yè)化制備高質(zhì)量、大面積石墨烯的方法。這種方法制備的石墨烯具有面積大和質(zhì)量高的特點(diǎn)，國內(nèi)用氣相沉積法制作石墨烯漿料的如 重慶墨稀、常州第六元素等企業(yè)

GMD2000油性石墨漿料納米研磨分散機(jī)特點(diǎn)：

1、GMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到更低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

2、GMD2000研磨分散機(jī)有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GMD2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

GMD2000結(jié)構(gòu)：

研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

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