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        江蘇思峻機械設備

        專注于分散、乳化、均質領域

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        當前位置:首頁產品中心膠體磨高剪切膠體磨GM2000高剪切濕法研磨膠體磨

        高剪切濕法研磨膠體磨
        產品簡介:

        高剪切濕法研磨膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,最高轉速可以達到15000RPM以上,所以可以達到更好的分散濕磨效果。

        產品型號:GM2000

        更新時間:2025-07-24

        廠商性質:生產廠家

        訪 問 量 :963

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        產品介紹

        一、粉體顆粒概述

        與大塊固體相比較,相對微小的固體稱之為顆粒。根據其尺度的大小,常區分為顆粒(particle)、微米顆粒(micronparticle)、亞微米顆粒(sub-micronparticle)、超微顆粒(ultramicronparticle)、納米顆粒(nano-particle)等等。這些詞匯之間有一定的區別,目前正在建立相應的標準進行界定。通常粉體工程學研究的對象,是尺度界于10-9m到10-3m范圍的顆粒。從粉體工程學廣泛的應用領域來看,以微小顆粒的形式來處理固體物質具有如下顯而易見的幾方面的必要性與有利性:

        1.比表面積增大促進溶解性和物質活性的提高,易于反應處理。

        2.顆粒狀態易于流動,可以精確計量控制供給與排出和成形。

        3.實現研磨、分散、混合、均質化與梯度化,控制材料的組成與構造。

        4.易于成分分離,有效地從天然資源或廢棄物中分離有用成分。

        如上所述,可以充分理解以顆?;蝾w粒集合體形式處理物料的重要性。

        粉體技術明確的一個發展方向是使顆粒更加微細化、更具有活性、更能發揮微粉*的性能。近年來關于“超微顆粒"的研究開發就是沿著這個方向,以至于60個碳原子組成C60和70個碳原子組成的C70(即fullerene:碳原子排列成球殼狀的分子)歸入超微粉體。自古以來的粉體單元操作——粉碎法(breaking-down法)、化學或物理的粉體制備法(building-up法)以及反應工程中物質移動操作的析晶反應,都被包含在粉體技術制備領域中。

        高剪切濕法研磨膠體磨工作原理:膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

        高剪切濕法研磨膠體磨


         膠體磨結構:三道磨碎區,一級為粗磨碎區,二級為細磨碎區,三級為超微磨碎區。 雖然都是三級結構,但是他們的設計不同理念不同,形狀及齒列的 結構。磨頭結構SZX有多種的膠 體磨頭主要內部結構區別溝槽是曲線,上下深度不一,上深下淺ZRF磨頭配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐型轉子/定子,具有良好的粉碎效果,耐磨及耐腐蝕。磨頭的結構:溝槽的結構式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道 的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度 一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質的區別。我們可以保證物料從上往下 一直在進行研 磨,而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。 軸的振動偏差 0.01mm (靜止) 這與設備的設計和零件的加工精度有關 這個和高速運轉有相當大的影響。偏差越大,就需要磨頭的間歇越 大,那么粉碎 的效果越差。 齒列的深度 從開始的2.7mm 到末端的0.7mm 范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。最大線速 度 V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S。


        高剪切濕法研磨膠體磨


         高剪切膠體磨的細化作用非常高,它對物料的適應能力也較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。

        高剪切濕法研磨膠體磨

          GM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。GM2000系列膠體磨的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

          高剪切濕法研磨膠體磨三級錯齒結構的研磨轉子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,最高轉速可以達到15000RPM以上,所以可以達到更好的分散濕磨效果。

         可以選擇六種不同的模塊頭,實現多種功能,如三級乳化模塊,超高速模塊,ZRF膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續粉液混合模塊。更換磨頭可以作為均質機使用。膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質機,但它對物料的適應能力 較強(如高粘度、大顆粒), 所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態物質較多時也常常使 用膠體磨進行細化

        產品特點:

          *優良的研磨效果的高吞吐量

          *為適應物料顆粒大小,可無限調整定子/轉子之間的間隙設置

          *適合于粘度高達50,000 mPas的各種粘度范圍的物料

          *能在高達16 bar的壓力下操作

          *所有接觸液體的部件為316L或316Ti不銹鋼

          *高性能雙端面機械密封

          *高標準表面處理

          *機器可自動排水, 具有CIP/SIP功能

          *噪音低

          *根據符合EHEDG(歐洲衛生工程設計集團)準則制造

          *制藥級設計

        *根據提供的ATEX 95指導方針執行防爆

        設備等級:化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
        電機形式:普通電機、變頻調速電機、防爆電機、變頻防爆電機
        電源選擇:380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
        設備選配:物料儲罐、變頻器、電控箱、移動小車,冰水機
        設備表面處理:拋光
        進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍

        以下為型號表供參考:

        型號

        標準流量

        L/H

        輸出轉速

        rpm

        標準線速度

        m/s

        馬達功率

        KW

        進口尺寸

        出口尺寸

        GM2000/4

        700

        18000

        44

        4

        DN25

        DN15

        GM2000/5

        3000

        10500

        44

        11

        DN40

        DN32

        GM2000/10

        8000

        7200

        44

        22

        DN50

        DN50

        GM2000/20

        20000

        4900

        44

        37

        DN80

        DN65

        GM2000/30

        40000

        2850

        44

        55

        DN150

        DN125

        GM2000/40

        80000

        1100

        44

        110

        DN150

        DN125







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